फैब फ्लोर पर, आप जानते हैं कि चीजें कितनी तेजी से बिगड़ सकती हैं। फोटोरेसिस्ट सॉफ्ट बेक में 1°C का बदलाव आपके CD को प्रभावित कर देता है। असमान ड्राई? इसी से जल चिह्न बनते हैं जो यील्ड को नुकसान पहुंचाते हैं। हमने वेफर सतह तनाव मापन हीटर को उन्हीं नुकसानों को शुरू में ही रोकने के लिए बनाया है।
तकनीकी रूप से महत्वपूर्ण क्या है
हम शॉर्ट-वेव इन्फ्रारेड का उपयोग करते हैं ताकि वेफर और फोटोरेसिस्ट पर सीधे, तेज़ और संपर्क रहित तापीय स्थानांतरण हो सके। वेफर पर तापमान समानता ±0.1°C के भीतर बनी रहती है, और सेटपॉइंट रिपीटेबिलिटी ±0.2°C पर स्थिर रहती है। प्रतिक्रिया समय 2 सेकंड से कम है, जिससे रैंप रेसिपी के अनुरूप साफ़ चलता है—कोई ओवरशूट नहीं होता।
यह Class 1–100 क्लीनरूम में चलता है, जिसमें कम आउटगैसिंग सामग्री और ऐसा डिज़ाइन होता है जो वेफर से कणों को दूर रखता है। शून्य कण उत्पादन ≤0.01 कण/cm² पर सत्यापित है। फील्ड में यह 24/7 बिना किसी अनियोजित डाउनटाइम के चलता है, और सॉफ्ट बेक, हार्ड बेक और क्यूरिंग के दौरान सख्त नियंत्रण बनाए रखता है।
व्यवहार में यह क्यों काम करता है
वेफर ड्राइंग के लिए, NIR प्रोफाइल एज बीड्स और सतह तनाव ग्रेडिएंट्स को हटाता है बिना कोई अवशेष छोड़े। लिथोग्राफी में, सॉफ्ट बेक तापमान की सटीकता फोटोरेसिस्ट की विस्कोसिटी और मोटाई को स्थिर करती है, जिससे लाइनवाइड नियंत्रण बेहतर होता है और दोष कम होते हैं।
हार्ड बेक और क्यूरिंग लगातार क्रॉसलिंकिंग प्रदान करते हैं, जो स्कम को कम करता है और एडहेज़न बढ़ाता है। इसका परिणाम होता है उच्च प्रथम-पास यील्ड, कम रीवर्क लॉट्स, और एक स्थिर थर्मल बजट जो साइकिल समय को कम करता है। ऊर्जा खपत भी घटती है क्योंकि हीटर मांग पर साइकिल करता है, बजाय एक बड़े, हमेशा गर्म क्षेत्र को बनाए रखने के।
शुरू में आपको जो जानना आवश्यक है
इंस्टॉलेशन के लिए समर्पित 24 VDC सप्लाई और क्लीनरूम-रेटेड वायरिंग की आवश्यकता होती है। रेट्रोफिट के दौरान ट्रैक या कोटर के अनुसार मामूली मैकेनिकल क्लियरेंस समायोजन हो सकता है। रेसिपी ट्रांसफर सरल है, लेकिन प्रारंभ में मल्टी-पॉइंट थर्मोकपल मैपिंग योजना बनानी चाहिए ताकि हीटर के क्लोज्ड-लूप कंट्रोल के साथ सहसंबंध स्थापित किया जा सके। कमीशनिंग आमतौर पर एक दिन से कम समय में पूरी हो जाती है, जिसमें सेटपॉइंट और अलार्म थ्रेशोल्ड लॉक किए जाते हैं।