Di pabrik pengolahan wafer, perubahan suhu selama proses burn-in dan fotoresist bake tidak ditandai dengan peringatan apa pun. Perubahan suhu tersebut menyebabkan pergeseran lebar garis pada permukaan wafer, adhesi yang lemah, serta penurunan kualitas wafer yang baru terlihat setelah proses pengujian listrik dilakukan. Kami merancang lampu pemanas jenis NIR agar dapat mencegah pergeseran suhu tersebut sebelum terjadi.
Apa yang penting dalam sistem ini? Sistem ini menggunakan sumber cahaya NIR berfrekuensi tinggi yang memiliki kecepatan respons yang cepat. Cahaya tersebut dapat memanaskan wafer secara cepat tanpa perlu kontak fisik. Tingkat keseragaman suhu di area proses mencapai ±0,1°C, sedangkan tingkat repetibilitasnya mencapai 0,2°C antar sesi pengolahan. Proses pemanasan yang dilakukan tetap terkendali, sehingga zat-zat pelarut dapat dikeluarkan dengan bersih, dan struktur wafer tidak rusak akibat proses pemanasan.
Sistem ini cocok digunakan di ruang bersih kelas 1–100, karena desainnya yang mengurangi jumlah partikel di udara. Kasing lampu dirancang sedemikian rupa sehingga udara panas tidak keluar, dan permukaan panas dilindungi agar jumlah partikel tetap rendah.
Mengapa sistem ini efektif dalam penggunaan nyata? Selama proses burn-in, lampu ini mampu menyesuaikan suhu dengan cepat, sehingga waktu proses dapat dikurangi tanpa merusak sambungan antar komponen. Pada proses litografi, energi yang dihasilkan oleh lampu ini membantu menciptakan kondisi pemanasan yang seragam, sehingga kualitas wafer tetap terjaga.
Sistem ini memberikan keandalan 24/7, dengan waktu pemeliharaan yang dapat diprediksi. Selain itu, sistem ini juga menghemat energi, karena sumber panasnya adalah lampu itu sendiri, bukan seluruh ruang pengolahan. Waktu proses menjadi lebih singkat, limbah berkurang, dan efisiensi produksi meningkat.
Detail teknisnya: Cahaya yang dihasilkan oleh lampu NIR bersifat linier, sehingga orientasi wafer dan kecepatan geraknya perlu disesuaikan dengan pola cahaya tersebut. Butuh waktu singkat untuk menyetel kalibrasi lampu tersebut.
Lampu ini dapat digunakan dengan antarmuka standar SEMI. Namun, untuk menggunakannya pada sistem lama, mungkin diperlukan penyesuaian pada sistem pengendalian suhu dan parameter proses. Pastikan aliran udara di ruang bersih berjalan dengan baik, dan sistem pembuangan udara mampu menangani beban maksimal saat proses pemanasan berlangsung.