なぜクリーンルームでは赤外線ヒーターの方が強制送風式より優れているのか？ 半導体製造の現場で働いたことがある人なら、加熱にかかる時間の長さがどれほど厄介かを知っているはずです。多くの古い方式では強制送風が使われています。巨大なファンが回り続け、熱い空気を特定の場所に送り込もうとしています。 しかし問題は、空気は熱を伝えるのが下手だということです。速度が遅いのです。結局、チャンバーが所定の温度に達するのを何分も待たなければなりません。これは時間の無駄です。 待つという行為の物理的な理由 赤外線ヒーターはこの状況を根本から変えます。空気を温めて部品を温めるのではなく、電磁波を直接基板に当てるのです。 空気を温める段階がないので、エネルギーの伝達はほぼ瞬時に行われます。 また、クリーンルームにおいてはこれは大きな利点です。巨大なダクトや高速の風を使う必要がなくなります。強制送風式では粒子が舞い上がりやすく、それは避けたいことです。赤外線ヒーターなら、部屋の中が静かに保たれ、迅速に温度が上昇します。 レイアウト上の問題点 赤外線ヒーターを使用する場合、各ウェハーにかかる「時間的な負担」を削減できます。数秒で熱を与えることができます。これにより、空気式システムでは不可能なほど精密な温度制御が可能になります。スペースが限られているが大量の熱が必要な場合には、これは非常に有効です。 しかし、注意点もあります。赤外線ヒーターは直線的な光の届く範囲内でしか機能しません。 もし部品の形状が複雑であったり、深い部分があったりすると、放射線は均等に全ての場所に届かないことがあります。単純に角に熱を送り込むことはできません。ランプの配置や反射板を使って、エネルギーを影の部分に向ける必要があります。 実際の現場での状況 強制送風式のオーブンを赤外線ヒーターに置き換える際、重要なのは単に性能だけではありません。実際にどれだけの量を処理できるかも重要です。 空気の乱流に悩まされることもなく、チャンバーが目標温度に達するのを待つ必要もありません。生産量を増やしたい場合、赤外線ヒーターが選ばれるのには理由があります。それは、熱をより迅速に伝えるからです。