팹 플로어에서 포토레지스트 베이크는 단순한 공정 단계가 아니라 허용 오차 한계선에 해당한다. 소프트 베이크나 하드 베이크에서 2°C의 편차는 CD 바이어스를 이동시키고, 사이드월 프로파일을 기울게 하며, 입자 수치를 규격 밖으로 벗어나게 만든다. Evatec 증발기 가열 램프는 이러한 열 경계를 정확히 유지하도록 설계되었다.
기술적으로 중요한 점
Evatec의 램프는 빠르고 깨끗한 적외선 에너지를 웨이퍼 레벨에서 균일하게 방출하여 소프트 베이크와 하드 베이크의 반복성을 보장한다. 설계는 안정적인 온도 유지에 중점을 두며, 매칭된 센서와 제어 루프와 함께 베이크 존 전체에서 ±0.1°C 이내의 온도 변동을 유지하여 리소그래피 스택 내 열 예산 한계를 지킨다.
포토레지스트 및 그 아래 스택의 흡수 특성에 맞춰 단파장 및 중파장 옵션을 제공하여 반사율 변동과 열 지연을 줄인다. 클린룸 Class 1–100에 적합하도록 소재와 형상을 선정하여 입자 발생과 가스 배출을 최소화하였다. 생산 환경에서는 24시간 7일 연속 운전을 견딜 수 있도록 설계되었으며, 5,000시간 이상 운전 시에도 출력 편차가 한 자릿수 퍼센트 내로 유지됨이 문서화되어 있다.
증발기 통합 시 장점
이 램프를 증발기에 장착하면 베이크 프로파일이 예측 가능해진다. 핫스팟이나 냉점 없이 균일한 온도 분포를 유지하여 라인 폭 제어가 일관되며 재작업이 감소한다. 베이크가 평형에 도달하는 시간이 단축되고 웨이퍼당 에너지 소모가 줄어들며 유지보수 중단이 줄어든다.
포토레지스트 공정에서는 스컴층 감소, 잔류 용매의 변동성 감소, 열 이력이 패턴 전사에 직접적인 영향을 미치는 민감한 노드에서 수율 향상으로 이어진다.
주의해야 할 점
램프가 규격을 충족하려면 전체 열 제어 루프가 맞춰져야 한다. 램프 방향, 반사기 상태, 센서 위치, 전원 공급 장치 보정이 챔버와 일치해야 한다. 일반 가열기 대비 더 엄격한 시운전 조건이 요구되며, 이 시스템은 증발기 플랫폼과의 정확한 매칭이 필수적이다.
통합 시에는 열-기계적 간격과 EMI 경로를 고려하고, 램프 외형이 클린룸 세척 절차와 호환되는지 확인해야 한다.