http://ir-heat-ultra.com/cs/tags/burn/ Recent content in Burn on Ultra-Performance IR Heating Hugo cs Mon, 22 Jun 2026 23:38:30 +0800 http://ir-heat-ultra.com/cs/posts/wafer-burn-in-test-heating-lamp/ Mon, 22 Jun 2026 23:38:30 +0800 http://ir-heat-ultra.com/cs/posts/wafer-burn-in-test-heating-lamp/ <p><img src="http://ir-heat-ultra.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png" alt="Zkouška spálení waferu s topnou lampou"></p> <p>V prostorách výroby nejsou výkyvy teploty během procesů zahřívání čipů a sušení fotorezistů označeny žádnými varovnými značkami. Projevují se jako změny šířky čar, slabá přilnavost materiálů a snížená kvalita výrobků – to se projeví až později, během elektrických testů. Naše napájecí lampy s využitím krátkovlnného NIR záření eliminují tyto výkyvy ještě předtím, než vůbec začnou.</p> <p><strong>Co je důležité uvnitř systému</strong><br> Systém využívá zdroje krátkovlnného NIR záření s rychle reagujícím kvartovým obalem, který umožňuje rychlé a bezkontaktní přenos tepla do čipu. Lze očekávat rovnoměrnost teploty v celé oblasti zpracování na úrovni ±0,1 °C, přičemž opakovatelnost je v rozmezí 0,2 °C mezi jednotlivými cykly. Profily měkkého a tvrdého zahřívání jsou udržovány pod přísnou kontrolou teploty, takže rozpouštědla mohou efektivně odejít a nevznikají žádné problémy spojené s vzájemným spojováním molekul.</p>