http://ir-heat-ultra.com/cs/tags/pl%C3%A1tek/ Recent content in Plátek on Ultra-Performance IR Heating Hugo cs Mon, 08 Jun 2026 05:03:16 +0800 http://ir-heat-ultra.com/cs/posts/mems-wafer-drying-heater/ Mon, 08 Jun 2026 05:03:16 +0800 http://ir-heat-ultra.com/cs/posts/mems-wafer-drying-heater/ <p><img src="http://ir-heat-ultra.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png" alt="Vysoušeč waferu MEMS"></p> <p>Na výrobní lince vyjde wafer z finálního oplachu—a spustí se časomíra. Pokud sušicí topení <a href="https://o-yate.com">nezvl</a>ádá, vznikne vlhkost uzamčená pod fotorezistem, která se projeví o několik hodin později jako vady v litografii. Naše sušící topení waferů pro MEMS je navrženo tak, aby tento riziko eliminovalo již v zárodku: stabilní teplo, cyklus za cyklem, bez výkyvů.</p> <h2 id="co-je-důležité-pod-povrchem">Co je důležité pod povrchem</h2> <p>Používáme krátkovlnné infračervené zářiče laděné na absorpční spektrum vody a běžných rozpouštědel, takže povrch se rychle a přímo zahřívá. Rovnoměrnost teploty po celé ploše waferu zůstává v rozmezí ±0,1°C, což zajišťuje kontrolu kritických rozměrů fotorezistu během soft bake i hard bake. Tělo topení je vyrobeno z křemenného a nerezového materiálu, konstruované pro provoz v čistých prostorách Class 1–100 s nulovou produkcí částic.<br> Smyslem je opakovatelnost pod kontrolou: nastavené hodnoty jsou stabilní, rampy se přesně opakují a tepelný rozpočet na dávku zůstává v rámci specifikací.</p>