Lámpara de calentamiento del evaporador Evatec

Tue, 02 Jun 2026 06:02:13 +0800

En la planta de fabricación, el horneado de fotoresistente no es solo otro paso, sino el límite de la ventana de tolerancia. Un desplazamiento de 2°C en el horneado suave o duro modificará el sesgo del CD, inclinará el perfil del lado de la pared y hará que el recuento de partículas se salga de especificación. La lámpara de calentamiento del evaporador Evatec está diseñada para mantener ese límite térmico controlado.

Lo que importa, técnicamente
Las lámparas de Evatec emiten energía infrarroja rápida y limpia con una uniformidad estricta a nivel de oblea, por lo que el horneado suave y duro se mantiene repetible. El diseño se enfoca en una temperatura estable; combinado con un sensor emparejado y un lazo de control, se mantiene ±0.1°C en toda la zona de horneado, manteniendo el presupuesto térmico dentro de los límites de la pila de litografía.
Se ofrecen opciones de onda corta y media para ajustarse a la absorción en el fotoresistente y la pila subyacente, lo que reduce la variación de reflectividad y el retraso térmico. La construcción está preparada para salas limpias Clase 1–100, con materiales y geometría seleccionados para evitar generación de partículas y desgasificación. En producción, está diseñada para operar 24/7, con documentación que avala más de 5,000 horas de funcionamiento con una deriva de salida dentro de un porcentaje de un solo dígito.

Evaporador on Ultra-Performance IR Heating

Lámpara de calentamiento del evaporador Evatec