Calefactor infrarrojo compatible _con vacío

Sat, 06 Jun 2026 03:56:07 +0800

En la línea, un wafer sale del spin coater y el fotoresistente debe fijarse—rápido—sin zonas calientes o frías. Un par de grados fuera durante el soft bake o hard bake y te enfrentas a solvente residual, colapso del patrón y pérdidas en el rendimiento. El calentador debe proporcionar temperatura repetible, evitar la entrada de partículas y mantenerse estable en vacío sin alterar la cámara.

Lo que importa bajo el capó
Construimos un calentador infrarrojo compatible con vacío basado en fuentes NIR de onda corta, ya que la transferencia directa de energía ofrece respuesta rápida y control térmico preciso. La matriz de emisores está diseñada para lograr uniformidad a nivel de wafer dentro de ±0.1°C, y el control en bucle cerrado mantiene el punto de consigna estable durante toda la curva de horneado.
Es compatible con salas limpias de Clase 1 a 100, usando materiales con baja emisión de gases y un acabado superficial que elimina la generación de partículas. En vacío, la salida se mantiene estable—sin arcos eléctricos—y el sistema está diseñado para funcionar 24/7, con mantenimiento programado en lugar de paradas inesperadas.

Vacío on Ultra-Performance IR Heating

Calefactor infrarrojo compatible _con vacío