<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Burn on Ultra-Performance IR Heating</title>
		<link>http://ir-heat-ultra.com/fa/tags/burn/</link>
		<description>Recent content in Burn on Ultra-Performance IR Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>fa</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 22 Jun 2026 23:38:30 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-ultra.com/fa/tags/burn/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>لامپ گرمایشی برای آزمون سوختگی وفر</title>
				<link>http://ir-heat-ultra.com/fa/posts/wafer-burn-in-test-heating-lamp/</link>
				<pubDate>Mon, 22 Jun 2026 23:38:30 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-ultra.com/fa/posts/wafer-burn-in-test-heating-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-ultra.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;لامپ گرمایشی برای آزمون سوختگی وفر&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;در کارخانه‌های تولید، تغییرات دما در فرآیندهای حرارت‌دهی ویفرها و فرآیندهای سوزاندن رزیستورهای نوری، هیچ هشداری ایجاد نمی‌کنند. این تغییرات باعث اختلال در عرض خطوط، ضعف چسبندگی و کاهش بازدهی می‌شوند؛ این مشکلات تنها در مرحله آزمایش‌های الکتریکی مشخص می‌شوند. ما لامپ‌های گرمایشی NIR را به گونه‌ای طراحی کرده‌ایم که این تغییرات را قبل از شروع فرآیند، متوقف کنند.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;عوامل مهم در این سیستم&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;این سیستم از منابع نوری با طول موج کوتاه استفاده می‌کند؛ این منابع با سرعت بالا گرما را به ویفرها منتقل می‌کنند، بدون اینکه نیاز به تماس فیزیکی باشد. انتظار داشته باشید که یکنواختی دما در کل منطقه فرآیند حدود ±۰.۱ درجه سانتی‌گراد باشد؛ همچنین تکرارپذیری عملکرد لامپ نیز در حد ۰.۲ درجه سانتی‌گراد خواهد بود. فرآیندهای حرارت‌دهی نیز تحت کنترل دقیق دمایی انجام می‌شوند؛ بنابراین مواد حل‌شونده به خوبی از بین می‌روند و پیوندهای بین مولکول‌ها نیز به درستی ایجاد می‌شوند.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
