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		<title>Galette on Ultra-Performance IR Heating</title>
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				<title>Chauffage de séchage pour plaquette MEMS</title>
				<link>http://ir-heat-ultra.com/fr/posts/mems-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Mon, 08 Jun 2026 05:03:16 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-ultra.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Chauffage de séchage pour plaquette MEMS&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur le plancher de fabrication, la plaquette sort du dernier rinçage — et le chronomètre démarre. Si le chauffage de séchage ne suit pas, de l’humidité reste piégée sous le photoresist, ce qui se manifeste quelques heures plus tard par des défauts en lithographie. Nous avons conçu nos chauffages de séchage pour plaquettes MEMS afin d’éliminer ce risque à la source : une chaleur constante, cycle après cycle, sans interruptions.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h2 id=&#34;ce-qui-compte-sous-le-capot&#34;&gt;Ce qui compte sous le capot&lt;/h2&gt;&#xA;&lt;p&gt;Nous utilisons des émetteurs infrarouges à ondes courtes réglés sur le profil d’absorption de l’eau et des solvants courants, de manière à chauffer la surface rapidement et directement. L’uniformité de la température sur la plaquette reste dans une plage de ±0,1 °C, ce qui assure la maîtrise des dimensions critiques du photoresist lors du soft bake et du hard bake. Le corps du chauffage est en quartz et acier inoxydable, conçu pour un fonctionnement en salle blanche Classe 1–100 sans génération de particules.&lt;/p&gt;</description>
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