Chauffage pour séchage de la galette du capteur MEMS

Mon, 27 Jul 2026 06:17:30 +0800

Une manière plus efficace de sécher les wafers MEMS
Soyez honnêtes : sécher les wafers de capteurs MEMS est une tâche complexe. Il faut éliminer l’humidité, mais il ne faut pas laisser de résidus. De plus, il ne faut surtout pas soumettre le matériau à des variations de température excessives. Pendant longtemps, on a simplement utilisé des fours par convection, en espérant que ça suffise. Mais il existe une méthode bien plus efficace.

Chauffage de séchage pour plaquette MEMS

Mon, 08 Jun 2026 05:03:16 +0800

Sur le plancher de fabrication, la plaquette sort du dernier rinçage — et le chronomètre démarre. Si le chauffage de séchage ne suit pas, de l’humidité reste piégée sous le photoresist, ce qui se manifeste quelques heures plus tard par des défauts en lithographie. Nous avons conçu nos chauffages de séchage pour plaquettes MEMS afin d’éliminer ce risque à la source : une chaleur constante, cycle après cycle, sans interruptions.

Ce qui compte sous le capot

Nous utilisons des émetteurs infrarouges à ondes courtes réglés sur le profil d’absorption de l’eau et des solvants courants, de manière à chauffer la surface rapidement et directement. L’uniformité de la température sur la plaquette reste dans une plage de ±0,1 °C, ce qui assure la maîtrise des dimensions critiques du photoresist lors du soft bake et du hard bake. Le corps du chauffage est en quartz et acier inoxydable, conçu pour un fonctionnement en salle blanche Classe 1–100 sans génération de particules.

MEMS on Ultra-Performance IR Heating

Chauffage pour séchage de la galette du capteur MEMS

Chauffage de séchage pour plaquette MEMS

Ce qui compte sous le capot