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		<title>Oxydation on Ultra-Performance IR Heating</title>
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				<title>Élément chauffant par oxydation de la wafer</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-ultra.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Élément chauffant par oxydation de la wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur la ligne d’oxydation, la stabilité de la température n’est pas simplement un avantage supplémentaire : c’est l’élément essentiel du processus. Une &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;variation&lt;/a&gt; de 1 °C sur la feuille de silicium suffit à faire varier l’épaisseur de l’oxyde de quelques angströms, ce qui peut entraîner des problèmes dans le fonctionnement des dispositifs et gaspiller des heures de travail. Nous avons conçu ces éléments chauffants pour éliminer cette incertitude.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Ce qui est important sur le plan technique :&lt;/strong&gt;&#xA;On obtient une uniformité thermique au niveau de la feuille de silicium de ±0,1 °C, ce qui &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;permet&lt;/a&gt; de maintenir un contrôle précis de la température. Le quartz renforcé en fibres de carbone assure une montée en température rapide et une émissivité prévisible. De plus, son design permet de minimiser les émissions de particules. Cela garantit une compatibilité avec des chambres propres de classe 1 à 100, des performances stables même en conditions de fonctionnement continu, ainsi que moins d’interruptions inattendues.&lt;/p&gt;</description>
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