सुखाना on Ultra-Performance IR Heating

एमईएमएस सेंसर वेफरों को सुखाने हेतु हीटर

Mon, 27 Jul 2026 06:17:28 +0800

MEMS वेफरों को सुखाने का बेहतर तरीका
ईमानदारी से कहें तो, MEMS सेंसर वेफरों को सुखाना बहुत ही कठिन काम है। इनमें मौजूद नमी को हटाना आवश्यक है, लेकिन इसके साथ ही कोई अवशेष भी नहीं रहना चाहिए। साथ ही, तापमान में अचानक होने वाले बदलावों से भी सामग्री को नुकसान नहीं पहुँचना चाहिए। लंबे समय तक हम ऐसे वेफरों को साधारण ओवनों में ही सुखाते रहे। लेकिन इसका एक बेहतर तरीका है।

फैब ड्रायिंग के लिए ऊर्जा ऑडिट

Tue, 21 Jul 2026 09:35:09 +0800

हम फैक्ट्री में IR क्यों उपयोग कर रहे हैं?
जब भी मैं किसी सुखाने वाली मशीन के ऊर्जा-उपयोग की जाँच करता हूँ, तो मैं एक ही बात जानने की कोशिश करता हूँ – कैसे हम कार्बन उत्सर्जन को कम कर सकते हैं, बिना प्रक्रिया की गति कम किए?
पुराने प्रकार की कंवेक्शन ओवनें वास्तव में ऐसे ही उपकरण हैं, जो बड़ी मात्रा में हवा को गर्म करते हैं… यह तो पूरी तरह से बर्बादी है! वास्तव में, हम तो सिर्फ वेफर को गर्म करने हेतु ही हवा को गर्म कर रहे हैं। इंफ्रारेड (IR) तकनीक में तो ऐसा ही नहीं होता… इसमें तो ऊर्जा सीधे ही सब्सट्रेट तक पहुँचती है।
यह तो एक अलग ही तरह की ऊष्मा है।
हम शॉर्ट-वेव एवं मीडियम-वेव IR लैंपों का उपयोग करते हैं… ताकि वे सॉल्वेंट/रेजिस्टेंट के विशिष्ट अवशोषण-बैंडों पर ही प्रभाव डाल सकें। अब हमें हवा के गर्म होने का इंतज़ार नहीं करना पड़ता… फोटॉन तो तुरंत ही वेफर की सतह पर पहुँच जाते हैं।
इस प्रकार, सुखाने की प्रक्रिया में लगने वाला समय मिनटों से कम होकर सेकंडों में ही रह जाता है… इससे उत्सर्जन कम हो जाता है, एवं प्रक्रिया की गति भी बढ़ जाती है… यह तो एक बेहतरीन विकल्प है।
लेकिन यहाँ एक समस्या है…
आप बस एक हीटर को हटाकर उसकी जगह IR लैंप लगा नहीं सकते… IR तो बहुत अधिक ऊष्मा उत्पन्न करता है… यदि कन्वेयर बेल्ट की गति थोड़ी भी अधिक हो जाए, या वॉटेज अधिक हो जाए, तो वेफर नष्ट हो जाएगा… यह तो एक बड़ी समस्या है।
इसके लिए तो एक बेहतरीन फीडबैक लूप आवश्यक है… पाइरोमीटर एवं पावर सप्लाई को तो वास्तविक समय में ही आपस में संवाद करना होगा… ताकि तापमान नियंत्रित रह सके।
हाल ही में, हमने “पल्स्ड IR” तकनीक के उपयोग से बेहतरीन परिणाम देखे… यह तो संस्थान पर पड़ने वाले ताप-भार को कम कर देती है… वास्तव में, यही वह सबसे आसान तरीका है, जिससे हम वैश्विक ESG लक्ष्यों को पूरा कर सकते हैं, बिना अपनी उत्पादन-क्षमता को कम किए।

वेफर सूखाने हेतु इन्फ्रारेड हीटर

Thu, 02 Jul 2026 08:35:11 +0800

वेफरों की सफाई के बाद, उन पर मौजूद थोड़ा सा भी पानी उनकी गुणवत्ता को खराब कर सकता है। पारंपरिक सुखाने की प्रक्रिया से वेफरों पर तापीय असमानताएँ उत्पन्न हो जाती हैं; ऐसी असमानताओं के कारण फोटोरेसिस्ट की मोटाई में भी असमानताएँ आ जाती हैं। हमने ऐसी असमानताओं को दूर करने हेतु इन्फ्रारेड हीटरों का उपयोग किया।

तकनीकी दृष्टि से क्या महत्वपूर्ण है?
हम तेज़ प्रतिक्रिया वाले क्वार्ट्ज तत्वों वाले शॉर्ट-वेव इन्फ्रारेड उत्सर्जकों का उपयोग करते हैं; इससे वेफर की सतह पर तापमान समान रहता है – लगभग ±0.1°C के भीतर। इससे वेफरों का तापमान स्थिर रहता है, और यह स्थिरता विभिन्न शिफ्टों, बैचों एवं उपकरणों में भी बनी रहती है।
100°C से 300°C तक तापमान स्थिर रहता है, क्योंकि इस प्रणाली में कड़ा नियंत्रण होता है। इससे सॉफ्ट बेक एवं हार्ड बेक प्रक्रियाएँ ठीक तरह से ही होती हैं। ये हीटर क्लास 1–100 के क्लीनरूमों में ही उपयोग में आ सकते हैं – क्योंकि इनमें कम गैस उत्सर्जन होता है, कोई कण उत्पन्न नहीं होता, एवं सतहों को साफ करने से चेम्बर में कोई प्रदूषण नहीं फैलता।