Pemanas inframerah yang kompatibel dengan vakuum

Sat, 06 Jun 2026 03:56:08 +0800

On the line, sebuah wafer keluar dari spin coater dan photoresist harus disetel—cepat—tanpa ada titik panas/dingin. Selisih beberapa derajat saat soft bake atau hard bake, dan Anda menghadapi pelarutan residu pelarut, kolaps pola, serta penurunan hasil produksi. Heater harus memberikan suhu yang dapat diulangi, menjaga partikel agar tidak masuk, dan tetap stabil dalam kondisi vakum tanpa mengganggu ruang bakar.

What matters under the hood
Kami merancang heater inframerah yang kompatibel dengan vakum menggunakan sumber NIR gelombang pendek, karena transfer energi langsung memberikan respons cepat dan kontrol termal yang ketat. Array emitter didesain untuk mencapai keseragaman suhu pada level wafer dalam rentang ±0,1°C, dan pengendalian loop tertutup menjaga setpoint tetap stabil sepanjang kurva bake.
Heater ini kompatibel dengan ruang bersih kelas 1–100, menggunakan bahan dengan outgassing rendah dan dengan permukaan yang menghasilkan nol partikel. Dalam kondisi vakum, output tetap stabil tanpa terjadi arcing, dan sistem dirancang untuk beroperasi 24/7 dengan jadwal perawatan rutin, bukan downtime tak terduga.

Kondisi Hampa Udara on Ultra-Performance IR Heating

Pemanas inframerah yang kompatibel dengan vakuum