<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Peralatan on Ultra-Performance IR Heating</title>
		<link>http://ir-heat-ultra.com/id/tags/peralatan/</link>
		<description>Recent content in Peralatan on Ultra-Performance IR Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 28 Jun 2026 05:31:24 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-ultra.com/id/tags/peralatan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Peningkatan peralatan ruang bersih di pabrik</title>
				<link>http://ir-heat-ultra.com/id/posts/clean-room-equipment-upgrades-fab/</link>
				<pubDate>Sun, 28 Jun 2026 05:31:24 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-ultra.com/id/posts/clean-room-equipment-upgrades-fab/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-ultra.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Peningkatan peralatan ruang bersih di pabrik&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di pabrik pengolahan chip tersebut, perubahan suhu sebesar 0,3°C selama proses pembakaran fotoresist bukanlah “kesalahan kecil”. Itu merupakan kerugian dalam proses produksi, secara sederhana. Suhu yang digunakan dalam proses Soft Bake dan Hard Bake menentukan rentang dimensi kritis dari chip tersebut. Jika keseimbangan termal di antara berbagai bagian chip tidak terjaga, maka selektivitas proses etching akan terganggu. Meningkatkan sistem pemanasan di ruang bersih bukanlah hal yang bersifat estetis belaka; ini merupakan bagian dari proses kontrol kualitas.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
