<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Terbakar on Ultra-Performance IR Heating</title>
		<link>http://ir-heat-ultra.com/id/tags/terbakar/</link>
		<description>Recent content in Terbakar on Ultra-Performance IR Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 22 Jun 2026 23:38:30 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-ultra.com/id/tags/terbakar/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu pemanas untuk pengujian kerusakan wafer</title>
				<link>http://ir-heat-ultra.com/id/posts/wafer-burn-in-test-heating-lamp/</link>
				<pubDate>Mon, 22 Jun 2026 23:38:30 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-ultra.com/id/posts/wafer-burn-in-test-heating-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-ultra.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Lampu pemanas untuk pengujian kerusakan wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di pabrik pengolahan wafer, perubahan suhu selama proses burn-in dan fotoresist bake tidak ditandai dengan peringatan apa pun. Perubahan suhu tersebut menyebabkan pergeseran lebar garis pada permukaan wafer, adhesi yang lemah, serta penurunan kualitas wafer yang baru &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;terlihat&lt;/a&gt; setelah proses pengujian listrik dilakukan. Kami merancang lampu pemanas jenis NIR agar dapat mencegah pergeseran suhu tersebut &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;sebelum&lt;/a&gt; terjadi.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dalam sistem ini?&lt;/strong&gt;&#xA;Sistem ini menggunakan sumber cahaya NIR berfrekuensi tinggi yang memiliki kecepatan respons yang cepat. Cahaya tersebut dapat memanaskan wafer secara cepat tanpa perlu kontak fisik. Tingkat keseragaman suhu di area proses mencapai ±0,1°C, sedangkan tingkat repetibilitasnya mencapai 0,2°C antar sesi pengolahan. Proses pemanasan yang dilakukan tetap terkendali, sehingga zat-zat pelarut dapat dikeluarkan dengan bersih, dan struktur wafer tidak rusak akibat proses pemanasan.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
