Ribbon pemanas berkecepatan tinggi

Thu, 18 Jun 2026 04:15:16 +0800

Di area produksi, fluktuasi suhu bukanlah masalah sepele yang hanya perlu dikalibrasi saja. Fluktuasi suhu tersebut dapat merusak wafer. Perubahan suhu sebesar 1°C selama proses pemanasan fotoresist dapat menyebabkan perubahan pada pola permukaan wafer, sedangkan proses pengeringan yang tidak merata akan meninggalkan noda-noda yang mengurangi tingkat keberhasilan produksi. Yang diperlukan adalah sumber panas yang stabil, konsisten, dan tak berfluktuasi dari satu sesi produksi ke sesi produksi lainnya—terutama pada suhu tinggi.

Yang penting secara teknis:
Pemanas berbasis bahan termal bertekanan tinggi ini mampu menjaga konsistensi suhu di tingkat wafer hingga ±0,1°C, dengan tingkat repetibilitas yang sangat baik sehingga memungkinkan proses produksi berjalan secara konsisten. Desain berbasis kuarsa dan inframerah pendek memungkinkan suhu mencapai tingkat yang diinginkan dengan cepat, serta mencegah terbentuknya partikel-partikel berbahaya. Pemanas ini kompatibel dengan ruang bersih kelas 1–100; selain itu, bahan-bahan yang digunakan memiliki emisi gas yang rendah, sehingga lingkungan produksi tetap terjaga. Unit-unit pemanas ini telah digunakan selama lebih dari 5.000 jam, dengan fluktuasi suhu kurang dari 5%. Ini merupakan angka yang sangat baik untuk digunakan dalam perencanaan produksi.

Termal on Ultra-Performance IR Heating

Ribbon pemanas berkecepatan tinggi