
Asciugatura delle wafer senza sprechi
Siamo onesti: i forni a convezione tradizionali rappresentano davvero un problema per le fabbriche di semiconduttori moderne. Sono ingombranti, consumano molta energia e non si adattano affatto agli standard ecologici attuali.
Ecco perché abbiamo optato per lampade a raggi infrarossi impermeabili per la fase di risciacquo. Invece di cercare di riscaldare una grande quantità d’aria – il che rappresenta uno spreco di energia – queste lampade agiscono direttamente sul liquido presente sulla wafer. È un modo molto più efficiente per svolgere il lavoro.
Come funzionano realmente
Pensateci così: l’aria calda agisce lentamente. I raggi infrarossi invece sono diversi: utilizzano onde elettromagnetiche che penetrano direttamente nel liquido presente sulla wafer, facendo vibrare le molecole d’acqua fino a farle scomparire quasi immediatamente.
Poiché queste lampade operano in un ambiente ad alta umidità, non possiamo utilizzare semplicemente qualsiasi tipo di lampadina. Utilizziamo invece contenitori in quarzo sigillati e connessioni resistenti all’umidità. Altrimenti, i filamenti delle lampade si ossiderebbero e si brucierebbero in pochi giorni. Nessuno vuole dover sostituire le lampade ogni due settimane.
Proteggere il pianeta
La maggior parte dei sistemi di essiccazione tradizionali dipende da combustibili fossili o da enormi sistemi di condizionamento dell’aria, che consumano molta energia. Le lampade a raggi infrarossi, invece, funzionano con l’elettricità. Se si è collegati a una rete energetica rinnovabile, l’impronta di carbonio diminuisce notevolmente.
Inoltre, non ci sono sostanze chimiche nocive nell’ambiente. È quindi un sistema pulito e efficiente.
I punti critici
Tuttavia, non è tutto così semplice. Le lampade ad alta intensità sono ottime per accelerare il processo di essiccazione, ma il calore prodotto è molto intenso. Se la lampada è troppo vicina alla wafer, si può verificare uno stress termico sul substrato. È necessario regolare correttamente la distanza tra la lampada e la wafer. Un po’ di calibrazione è sufficiente per evitare che il silicio venga surriscaldato.
Risparmio di spazio
Il vantaggio principale è che questi sistemi occupano molto meno spazio. Si ottiene lo stesso livello di efficienza di un grande tunnel di convezione, ma con un consumo di spazio ridotto. Questo significa più spazio disponibile nella sala pulita e meno problemi legati all’installazione dei sistemi di risciacquo. È quindi una soluzione semplice ed efficace per risolvere problemi legati all’uso di sostanze chimiche.