Lampada di riscaldamento per il test di surriscaldamento dei wafer

Mon, 22 Jun 2026 23:38:30 +0800

Nelle linee di produzione, le variazioni di temperatura durante i processi di burn-in dei wafer e di essiccazione del fotoresist non vengono indicate da alcun segnale di avvertimento. Tali variazioni si manifestano invece attraverso una diminuzione della larghezza delle linee tracciate sul wafer, una cattiva adesione tra i diversi componenti del wafer stesso, e una riduzione della qualità del prodotto, che viene riscontrata soltanto durante i test elettrici. Abbiamo progettato le nostre lampade a riscaldamento NIR per evitare tali problemi fin dall’inizio.

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Lampada di riscaldamento per il test di surriscaldamento dei wafer