Riscaldatore a infrarossi per essiccazione dei wafer

Thu, 02 Jul 2026 08:35:12 +0800

Nelle linee di produzione, anche un singolo segno lasciato dopo la pulizia può compromettere l’intera produzione. Il processo di essiccazione tradizionale crea gradienti termici sulla superficie del wafer; tali gradienti si traducono in irregolarità nella spessore del fotoresistente dopo il trattamento termico. Noi abbiamo progettato dei riscaldatori a infrarossi per eliminare proprio queste irregolarità fin dal loro insorgere.

Quello che è importante dal punto di vista tecnico:
Utilizziamo emettitori a onde corte a base di elementi in quarzo ad alta risposta, in modo che il flusso di calore sulla superficie del wafer sia uniforme, fino a livelli sub-milimetrici. Questo permette di ottenere una uniformità della temperatura entro ±0,1°C, con una ripetibilità costante indipendentemente dalle variazioni nei cicli di produzione o dal cambiamento degli strumenti utilizzati. La temperatura rimane stabile tra 100°C e 300°C, grazie a un controllo preciso, in modo che i profili di trattamento termico seguano esattamente le specifiche richieste. I riscaldatori sono progettati per essere utilizzati in ambienti di pulizia di classe 1–100: materiali con bassa emissione di gas, assenza totale di particelle generate, e superfici che possono essere pulite senza contaminare l’ambiente di lavoro.

Lampada infrarossa rivestita d oro per semiconduttori

Sat, 20 Jun 2026 05:42:59 +0800

Nelle linee di produzione, una variazione della temperatura di cottura di soli 0,5°C è sufficiente per causare modifiche nelle dimensioni critiche dei componenti, con conseguente diminuzione della qualità del prodotto. I processi di cottura “soft” e “hard” non sono semplicemente passaggi legati al riscaldamento: essi determinano infatti il bilancio termico dell’intero processo di litografia.

Cosa è importante nella fase di funzionamento
Utilizziamo lampade a infrarossi rivestite d’oro, che emettono luce infrarossa quasi monocromatica; questo permette di riscaldare il wafer direttamente, senza causare alcuna pressione sul substrato. Il rivestimento d’oro garantisce una elevata riflettività spettrale e un’emissività stabile in tutto lo spettro di funzionamento, così da mantenere l’uniformità della temperatura del wafer entro i valori di ±0,1°C. Regoliamo anche la geometria dei filamenti e la risposta termica delle lampade, in modo che queste raggiungano il punto di temperatura desiderato in pochi secondi e mantengano tale temperatura con alta precisione. Il profilo termico rimane quindi costante, indipendentemente dalle condizioni ambientali.

Infrarossi on Ultra-Performance IR Heating

Riscaldatore a infrarossi per essiccazione dei wafer

Lampada infrarossa rivestita d oro per semiconduttori