Fabbrica di nastro termico ad alta temperatura

Thu, 18 Jun 2026 04:15:16 +0800

Nelle linee di produzione, le fluttuazioni di temperatura non rappresentano soltanto un problema legato alla calibrazione degli strumenti: queste fluttuazioni possono causare danni alle wafer stesse. Una variazione di temperatura di 1°C durante il processo di essiccazione del fotorest può alterarne la struttura; inoltre, un essiccazione non uniforme può lasciare tracce d’acqua che compromettono la qualità dei prodotti finiti. È quindi fondamentale disporre di un sistema di riscaldamento stabile e affidabile, che mantenga costante la temperatura, soprattutto a alte temperature.

Nastro on Ultra-Performance IR Heating

Fabbrica di nastro termico ad alta temperatura