Elemento riscaldante per ossidazione dei wafer

Thu, 25 Jun 2026 04:37:15 +0800

Nella linea di ossidazione, la stabilità della temperatura non è semplicemente un vantaggio: è fondamentale per l’intero processo di produzione. Un cambiamento di temperatura di 1°C sul wafer può causare variazioni nell’spessore dell’ossido di alcune angströmi; questo basta per far sì che i dispositivi non rispettino le specifiche richieste, con conseguente perdita di ore di lavoro. Abbiamo progettato questi elementi riscaldanti proprio per eliminare questa incertezza.

Cosa conta, dal punto di vista tecnico
Si ottiene una uniformità termica a livello del wafer entro ±0,1°C, il che permette di mantenere sotto controllo i parametri termici e di garantire prestazioni costanti. Il quarzo rinforzato con fibra di carbonio assicura un rapido aumento della temperatura e un’emissività prevedibile; inoltre, la struttura a bassa emissione di gas riduce al minimo la formazione di particelle. Questo garantisce compatibilità con ambienti di produzione di classe 1–100, prestazioni stabili anche durante il funzionamento 24/7, e meno fermi imprevisti.

Ossidazione on Ultra-Performance IR Heating

Elemento riscaldante per ossidazione dei wafer