Elemento riscaldante in quarzo ad alta purezza

Mon, 01 Jun 2026 02:22:55 +0800

Sulla linea, la temperatura non è un’impostazione di sfondo. È una leva centrale del processo—una che non si può trattare come un’ipotesi.
Nella asciugatura del wafer, nella cottura del photoresist, nella polimerizzazione del package e nell’asciugatura dopo la pulizia, l’elemento riscaldante è al centro di resa e ripetibilità. Un punto freddo nella zona calda, una deriva durante il soak o un picco di particelle dopo il ciclo termico possono manifestarsi come residui, solventi residui, controllo critico delle dimensioni compromesso o un calo di resa che si ripresenta settimane dopo. L’elemento deve fare più che generare calore. Deve fornire calore con la stabilità e la pulizia richieste dalla fabbrica.
Abbiamo progettato i nostri elementi riscaldanti in quarzo ad alta purezza per questa esigenza. Operano in cleanroom di Classe 1–100, mantengono un’uniformità termica a livello wafer stretta e azzerano la generazione di particelle.

Purezza on Ultra-Performance IR Heating

Elemento riscaldante in quarzo ad alta purezza