乾燥 on Ultra-Performance IR Heating

MEMSセンサーワイヤー用乾燥ヒーター

Mon, 27 Jul 2026 06:17:40 +0800

MEMSウェーハを乾燥させるためのより良い方法
正直言って、MEMSセンサー用ウェーハを乾燥させるのは大変な作業です。水分を除去しなければならない一方で、残留物が残ってはいけず、また、極端な温度変化によって素材が損傷してしまってはいけません。長い間、私たちは単に対流式オーブンを使って乾燥させるしかありませんでした。しかし、もっと効率的な方法があります。

ファブ乾燥装置のエネルギー診断

Tue, 21 Jul 2026 09:35:09 +0800

なぜ私たちが工場でIR硬化法を採用するのか
乾燥工程のエネルギー消費をチェックするとき、私が最も重視するのは「工程の速度を落とさずに、どうやって炭素排出量を減らすか」という点です。
従来の対流式オーブンは、大量の空気を加熱する巨大な装置に過ぎません。これは完全な無駄遣いです。ウェーハを加熱するためだけに空気を加熱しているのです。一方、赤外線硬化法では、部屋全体を温める代わりに、エネルギーを直接基板に照射します。
これは全く異なる種類の熱です。
私たちは短波および中波の赤外線ランプを使用し、溶剤や抵抗体の吸収帯に正確にエネルギーを当てます。空気が温まるのを待つ必要はありません。光子が即座にウェーハ表面に到達します。
そうすることで、乾燥時間は数分から数秒に短縮されます。炭素排出量も減少し、工程の速度も上がります。まさに一石二鳥です。
また、環境面でもメリットがあります。鉛フリー化の動きは、はんだだけでなく、全体的な加熱プロセスにも関係しています。対流式の場合、長時間にわたる加熱を乗り切るために、強力な化学安定剤や鉛を含むフラックスが必要になります。しかし、赤外線硬化法は違います。高速で正確に温度をコントロールできます。基板が劣化する前に、温度を急上昇させたり、再び下げたりすることができます。有毒なガスも出ず、クリーンルーム内に無駄な熱が漏れ出してHVACシステムが過度に稼働することもありません。
ただし、注意点もあります。
単純にヒーターを取り除いて赤外線ランプを設置するだけでは不十分です。赤外線は非常に高い熱密度を持っているため、コンベアの速度が少しでも変わったり、出力が高すぎたりすると、ウェーハが焼損してしまいます。これは大惨事です。
そのため、厳密なフィードバックループが必要です。温度計と電源装置はリアルタイムで連携し、温度が上昇しすぎないようにしなければなりません。
最近では、パルス式の赤外線を使うことで最良の結果が得られています。これにより、施設への定常的な熱負荷が大幅に削減されます。実際、生産性を犠牲にせずに、世界的なESG目標を達成する最も簡単な方法です。

安価なウェーハ乾燥用ランプ球

Sat, 04 Jul 2026 10:49:38 +0800

実際の現場で使用できる赤外線ランプ
私たちがこの赤外線ランプを作ったのは、最高性能の製品に高額な費用を払うのにうんざりしているエンジニアのためです。これは、普段使っている高価な海外ブランドの部品に代わる、高性能な代替品です。特にウェーハの乾燥に最適です。つまり、生産ラインを止めないように、十分な熱出力と信頼性を提供しつつ、手頃な価格で提供するのです。

ウェーハ乾燥用赤外線ヒーター

Thu, 02 Jul 2026 08:35:11 +0800

製造現場では、洗浄後に残るわずかな水跡だけで、大量のウェハーが不良品になってしまうことがあります。従来の乾燥方法では、ウェハー表面に温度勾配が生じ、その結果、ソフトベイク後にフォトレジストの厚みに不均一性が生じます。私たちは、そうした不均一性を根本から解消するために、インフラーレッドヒーターを開発しました。

技術的に重要な点 私たちは、高速応答性を持つ石英素子を用いた短波長インフラーレッドエミッターを使用しています。これにより、ウェハー表面全体における熱流がマイクロメートル単位で均一になります。その結果、ウェハー全体の温度のばらつきは±0.1℃以内に抑えられ、シフトやロットの変更、装置の交換にも関わらず再現性が保たれます。 100℃から300℃の範囲で出力が安定しており、厳密なフィードバック制御により、ソフトベイクやハードベイクのプロセスが正確に実行されます。また、このヒーターはクラス1～100のクリーンルームで使用できるように設計されており、ガス放出が少なく、粒子の発生もない上、表面も簡単に拭けてチャンバーを汚染しません。

MEMSウェーハ乾燥ヒーター

Mon, 08 Jun 2026 05:03:16 +0800

製造現場では、ウェハーが最終すすぎから出てきて、そこから時計が動き始める。乾燥ヒーターが追いつかなければ、フォトレジストの下に水分が閉じ込められ、それが数時間後にリソグラフィの欠陥として現れる。われわれは、安定した熱をサイクルごとに途切れなく供給することで、このリスクを根本から排除するためにMEMSウェハー乾燥ヒーターを設計した。

重要なポイント

水や一般的な溶剤の吸収特性に合わせて調整された短波赤外線エミッターを使用し、表面を迅速かつ直接的に加熱している。ウェハー全体の温度均一性は±0.1°C以内に維持され、ソフトベークとハードベーク時のフォトレジスト寸法制御を保護する。ヒーター本体はクォーツとステンレス製で、クリーンルームClass 1–100の運用に対応し、粒子発生をゼロに設計している。
重要なのは管理された再現性である。設定温度は一定に保たれ、立ち上がりと降下は繰り返し同じ挙動を示し、バッチごとの熱予算も仕様内で維持される。