http://ir-heat-ultra.com/ko/tags/%EC%82%B0%ED%99%94/ Recent content in 산화 on Ultra-Performance IR Heating Hugo ko Thu, 25 Jun 2026 04:37:15 +0800 http://ir-heat-ultra.com/ko/posts/wafer-oxidation-heating-element/ Thu, 25 Jun 2026 04:37:15 +0800 http://ir-heat-ultra.com/ko/posts/wafer-oxidation-heating-element/ <p><img src="http://ir-heat-ultra.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png" alt="와이어 표면 산화용 가열 소자"></p> <p>산화 공정에서는 온도의 안정성이 단순히 중요한 요소가 아니라, 전체 공정의 핵심입니다. 웨이퍼의 온도가 1°C만 변해도 산화막의 두께가 앙스트롬 단위로 변하게 되며, 이는 장치의 성능을 저하시켜 수시간에 걸친 작업 결과를 망쳐버릴 수 있습니다. 우리는 바로 이러한 불확실성을 없애기 위해 이러한 가열 소자들을 개발했습니다.</p>