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		<title>와퍼 on Ultra-Performance IR Heating</title>
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		<description>Recent content in 와퍼 on Ultra-Performance IR Heating</description>
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				<title>웨이퍼 건조용 적외선 히터</title>
				<link>http://ir-heat-ultra.com/ko/posts/wafer-drying-infrared-heater/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 08:35:12 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-ultra.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;웨이퍼 건조용 적외선 히터&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;생산 현장에서는, 세척 후에 남은 미세한 수분만으로도 전체 웨이퍼의 품질이 저하될 수 있습니다. 기존의 건조 방식은 웨이퍼 표면에 온도 차이를 만들어내며, 이러한 온도 차이로 인해 소프트 베이크 과정에서 포토레지스트의 두께가 균일하지 않아집니다. 우리는 바로 이러한 문제를 해결하기 위해 웨이퍼 건조용 적외선 히터를 개발했습니다.&lt;/p&gt;</description>
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				<title>와이어 표면 산화용 가열 소자</title>
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				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 04:37:15 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-ultra.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;와이어 표면 산화용 가열 소자&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;산화 공정에서는 온도의 안정성이 단순히 중요한 요소가 아니라, 전체 공정의 핵심입니다. 웨이퍼의 온도가 1°C만 변해도 산화막의 두께가 앙스트롬 단위로 변하게 되며, 이는 장치의 성능을 저하시켜 수시간에 걸친 작업 결과를 망쳐버릴 수 있습니다. 우리는 바로 이러한 불확실성을 없애기 위해 이러한 가열 소자들을 개발했습니다.&lt;/p&gt;</description>
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