Di bilik pembuatan semikonduktor, perbezaan suhu sebanyak 0.3°C semasa proses pemanggangan fotoresist bukanlah “kesilapan kecil”. Ia merupakan pengurangan kualiti produk yang dihasilkan. Suhu yang digunakan dalam proses Soft Bake dan Hard Bake menentukan julat dimensi yang diinginkan. Apabila keseragaman suhu berkurangan, maka pemilihan bahan yang akan digunakan untuk proses etching juga akan terjejas. Meningkatkan sistem pemanasan di bilik bersih bukanlah sekadar untuk tujuan estetika, tetapi untuk mengawal proses pengeluaran dengan lebih baik.
Kami menggunakan sistem pemanasan berbasis kuarsa yang dikendalikan melalui kawalan gelung tertutup, dengan tujuan untuk mencapai keseragaman suhu pada tahap ±0.1°C. Sistem ini memastikan ketepatan suhu semasa proses Soft Bake dan Hard Bake, sehingga aliran fotoresist, bahan pelarut yang tersisa, serta kepadatan ikatan antara bahan-bahan tersebut tetap berada dalam lingkungan yang ditetapkan.
Sistem ini sesuai digunakan di bilik bersih kelas 1–100, kerana ia menggunakan bahan-bahan yang bebas dari zarah-zarah halus, serta sistem pembuangan gas yang efektif untuk mengurangkan jumlah zarah halus semasa proses termal. Kredibiliti sistem ini dapat dilihat daripada masa operasinya yang berterusan 24/7, tanpa gangguan yang tidak dijangka.
Mengapa sistem ini berkesan dalam praktiknya? Kawalan suhu yang lebih baik memastikan keseragaman dimensi produk yang dihasilkan, sekaligus mengurangkan keperluan untuk melakukan proses pembetulan semula. Hasilnya, prestasi proses litografi dan etching menjadi lebih stabil, kerana prosesnya tidak lagi terganggu.
Dari segi tenaga pula, pemanas ini mampu mencapai suhu yang diinginkan dengan cepat, dan mempertahankan suhu tersebut tanpa melebihi batas yang ditetapkan. Ini bermakna waktu proses menjadi lebih singkat, dan jumlah bahan yang terbuang pun berkurangan—tanpa perlu mengubah reaksi kimia atau komposisi bahan yang digunakan.
Apa yang perlu diperhatikan semasa pemasangan? Pastikan dimensi ruang, sistem pembuangan gas, dan antaramuka kuasa sesuai dengan peralatan yang ada. Semak juga spesifikasi voltan dan sambungan kabel agar sesuai dengan peralatan yang digunakan. Sistem ini boleh disepadukan dengan sistem pembuatan semikonduktor yang biasa digunakan, tetapi ia memerlukan bekalan tenaga yang stabil agar suhu dapat dikawal dengan baik.
Jangkakan masa ujian yang singkat untuk menyesuaikan kadar proses sesuai dengan jenis fotoresist yang digunakan. Setelah beberapa penyesuaian dibuat, sistem ini akan berfungsi dengan baik.