Di bilik pembersihan yang canggih ini, kesan tanda air yang tertinggal selepas proses pembersihan sahaja sudah cukup untuk merosakkan keseluruhan kumpulan wafer tersebut. Proses pengeringan secara konvensional akan menyebabkan perbezaan suhu di permukaan wafer, dan perbezaan ini akan menyebabkan ketidakseragaman ketebalan lapisan photoresist setelah proses pembakaran. Kami telah mencipta pemanas inframerah khusus untuk menghilangkan perbezaan suhu tersebut sejak awal.
Apa yang penting dari segi teknikalnya
Kami menggunakan pemancar inframerah gelombang pendek yang dilengkapi dengan unsur kuarsa berkapasiti respons yang cepat. Dengan cara ini, aliran haba di permukaan wafer menjadi seragam, walaupun pada skala sub-milimeter. Ini memastikan suhu pada permukaan wafer tetap seragam dalam lingkungan ±0.1°C, dan kebolehpengulangan proses juga terjaga, tanpa mengira perubahan masa, kumpulan wafer, atau alat yang digunakan.
Suhu keluaran tetap stabil antara 100°C hingga 300°C, berkat kawalan loop tertutup yang efektif. Ini memastikan proses pembakaran berjalan dengan tepat mengikut spesifikasi yang ditetapkan. Pemanas-pemanas ini direka untuk digunakan di bilik bersih kelas 1–100: bahan-bahan yang digunakan mempunyai pelepasan gas yang rendah, tiada partikel yang dihasilkan, dan permukaannya mudah dibersihkan tanpa mengotori bilik tersebut.
Mengapa ia berkesan dalam praktiknya
Dalam proses pengeringan wafer dan pemprosesan photoresist, keseragaman suhu merupakan faktor penentu antara hasil yang berkualiti tinggi dan hasil yang rosak. Profil suhu yang seragam dapat mengurangkan masalah seperti benjolan pada permukaan wafer dan gelombang suhu yang tidak stabil. Selain itu, ia juga membantu mengawal ketepatan ukuran wafer.
Proses pemanasan yang cepat dapat memendekkan masa proses tanpa menjejaskan kualiti suhu. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana pemancar hanya memanaskan objek yang disasarkan, bukan seluruh permukaan wafer. Kebolehpercayaan sistem pula bergantung pada masa operasi yang stabil—unit-unit ini boleh beroperasi 24/7 dengan jadual penyelenggaraan yang teratur, tanpa gangguan yang tidak dijangka.
Berikut adalah butiran praktikalnya
Pemasangan sistem ini memerlukan perhatian khusus terhadap penyesuaian optik serta ketepatan emisiviti bahan pembawa dan wafer itu sendiri. Jika permukaan kedua-duanya tidak serasi, graf suhu akan menjadi tidak tepat.
Sistem ini memerlukan udara yang bersih dan kering, serta bekalan voltan yang stabil agar kawalan loop berfungsi dengan baik. Lakukan ujian singkat untuk menyesuaikan parameter PID dan menentukan zon panas yang sesuai dengan saiz wafer dan proses yang digunakan.
Setelah semuanya disetel, pemanas akan beroperasi dengan sedikit variasi suhu. Namun, perlu ada pengesahan semula setelah berlaku perubahan pada komponen sistem—itu merupakan amalan biasa dalam operasi kilang.