Fab on Ultra-Performance IR Heating

Lampu inframerah berbahan serat karbon

Tue, 28 Jul 2026 05:10:14 +0800

Mengapa Karbon Serat IR merupakan penyelesaian terbaik untuk kilang pintar

Jika anda merancang untuk membina kilang pintar yang canggih, anda pasti sudah tahu cabaran-cabaran yang perlu dihadapi. Semua komponen perlu disambungkan dengan cepat dan tepat. Namun, inilah titik di mana ramai orang menghadapi masalah: proses pemanasan.

Kebanyakan elemen pemanasan tradisional beroperasi dengan perlahan. Mereka memerlukan masa yang lama untuk memanaskan bahan tersebut, dan masa yang lebih lama lagi untuk menyejukkannya. Selain itu, elemen-elemen ini juga tidak dapat berhubung dengan perisian dengan baik, sehingga menyukarkan proses penciptaan “digital twin”. Itulah sebabnya kami menggunakan lampu berbasis karbon serat IR.

Penyelesaian pengeluaran fabrik yang mampan

Sat, 25 Jul 2026 04:45:58 +0800

Mengapa Kami Melakukan Ujian Stres pada Setiap Tabung Lampu

Kami tidak melakukan ujian secara rawak sahaja. Setiap tabung lampu yang keluar dari bengkel kami akan menjalani ujian tekanan voltan dan rintangan isolasi yang menyeluruh.

Sebabnya ialah: dalam persekitaran pengeluaran, sebarang kebocoran elektrik yang kecil pun boleh menjadi masalah besar. Ia bukan sahaja boleh merosakkan fius, tetapi juga merosakkan keseluruhan kumpulan wafer yang dihasilkan, sekali gus mengakibatkan gangguan operasi. Ini bermakna kos yang tinggi dan tekanan yang tidak perlu.

Pengeluar lampu pengeringan inframerah yang berdaftar

Fri, 24 Jul 2026 11:52:18 +0800

Menjaga Kebersihan Bilik Bersih Kelas 100

Dalam persekitaran Kelas 100, risikonya sangat tinggi. Sebuah serpihan kulit kecil atau zarah debu yang tercampur ke dalam udara pun boleh merosakkan wafer atau lensa berketepatan tinggi tersebut.

Masalahnya ialah kebanyakan elemen pemanas tidak direka untuk digunakan dalam keadaan seperti ini. Elemen-elemen ini cenderung untuk mengeluarkan gas atau zarah-zarah kecil semasa proses pemanasan dan penyejukan. Untuk mengatasi masalah ini, kita menggunakan lampu IR yang diperbuat daripada kuarsa sintetik berkualiti tinggi. Lampu-lampu ini direka khusus untuk digunakan di bilik-bilik pemprosesan.

Pengauditan tenaga untuk proses pengeringan di kilang

Tue, 21 Jul 2026 09:35:09 +0800

Mengapa Kami Beralih ke Kaedah Pengeringan Menggunakan Cahaya Infra Merah di Kilang
Setiap kali saya memeriksa penggunaan tenaga dalam proses pengeringan, saya sentiasa mencari cara untuk mengurangkan kesan karbon tanpa memperlahankan kelajuan proses tersebut.

Kebanyakan ketuhar konveksi lama sebenarnya hanyalah kotak besar yang digunakan untuk memanaskan udara dalam kuantiti yang banyak. Ini merupakan pembaziran masa dan tenaga. Udara dipanaskan hanya untuk memanaskan wafer tersebut. Sebaliknya, kaedah pengeringan menggunakan cahaya infra merah membebaskan tenaga secara langsung ke permukaan wafer.

Kotak pemanas diperbuat daripada keluli tahan karat

Sun, 19 Jul 2026 15:31:22 +0800

Mengurangkan Pelepasan Karbon dalam Proses Pemanasan: Semuanya Berkaitan dengan Di Mana Panas Itu Digunakan

Dalam kilang pengeluaran semikonduktor, ketepatan merupakan faktor yang sangat penting. Namun, untuk waktu yang lama, kita masih bergantung pada pemanas jenis resistif yang berfungsi seperti pemanas biasa. Pemanas ini memang dapat memanaskan wafer, tetapi ia juga menyebabkan pembaziran tenaga yang banyak kerana perlu memanaskan keseluruhan struktur mesin tersebut.

Kita kini beralih kepada penggunaan pemanas jenis inframerah (IR). Cara ini lebih efektif – suhu yang dikehendaki dapat dicapai dengan lebih cepat, dan udara di sekelilingnya tidak perlu dipanaskan.

Perisai kaca kuarsa untuk lampu fabrikasi

Wed, 15 Jul 2026 09:53:52 +0800

Melindungi Lampu IR daripada Bahan Kimia yang Mudah Terbakar

Sejujurnya, menggunakan lampu inframerah di kawasan pembersihan bahan kimia merupakan perkara yang agak berisiko. Anda perlu berhadapan dengan wap-wap yang mudah terbakar. Dalam keadaan seperti ini, sedikit percikan api atau retakan kecil pada tiub lampu pun boleh menyebabkan bencana.

Untuk mengelakkan hal ini, kita membalut lampu tersebut dengan pelindung kaca kuarsa khas. Ia berfungsi sebagai “kokon pelindung” yang melindungi elemen pemanas dan wap-wap berbahaya daripada bersentuhan antara satu sama lain.

Peralatan bilik bersih dinaik taraf di fasiliti tersebut.

Sun, 28 Jun 2026 05:31:25 +0800

Di bilik pembuatan semikonduktor, perbezaan suhu sebanyak 0.3°C semasa proses pemanggangan fotoresist bukanlah “kesilapan kecil”. Ia merupakan pengurangan kualiti produk yang dihasilkan. Suhu yang digunakan dalam proses Soft Bake dan Hard Bake menentukan julat dimensi yang diinginkan. Apabila keseragaman suhu berkurangan, maka pemilihan bahan yang akan digunakan untuk proses etching juga akan terjejas. Meningkatkan sistem pemanasan di bilik bersih bukanlah sekadar untuk tujuan estetika, tetapi untuk mengawal proses pengeluaran dengan lebih baik.

Kertas pita termal untuk suhu tinggi

Thu, 18 Jun 2026 04:15:16 +0800

Di fasiliti pengeluaran cip, perubahan suhu bukan sekadar masalah yang memerlukan penalaan semula. Perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pembakaran bahan photoresist boleh menyebabkan perubahan pada ketepatan pola cip tersebut. Selain itu, pengeringan yang tidak seragam akan menyebabkan kesan air yang merosakkan kualiti cip. Oleh itu, suhu perlu kekal stabil, konsisten dari satu syif ke syif yang lain, terutamanya pada suhu tinggi.

Apa yang penting dari segi teknikalnya
Pemanas berkuasa tinggi yang digunakan dalam fasiliti ini mampu mengekalkan suhu yang seragam pada tahap ±0.1°C, dengan ketepatan yang sangat tinggi sehingga membolehkan proses pengeluaran berjalan dengan lancar. Reka bentuk pemanas menggunakan kuarsa dan gelombang inframerah pendek membolehkan suhu dicapai dengan cepat, dan suhu dapat dikekalkan secara stabil. Pemanas ini juga sesuai untuk bilik bersih kelas 1–100. Bahan-bahan yang digunakan bebas daripada gas berbahaya, dan antaramuka pemanas dilindungi dengan baik untuk melindungi persekitaran kerja. Pemanas ini telah beroperasi selama lebih dari 5,000 jam, dengan perubahan suhu kurang dari 5% – ini merupakan prestasi yang boleh diharapkan.