Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Mon, 27 Jul 2026 06:17:55 +0800

Cara yang Lebih Baik untuk Mengeringkan Wafer MEMS
Sejujurnya, proses pengeringan wafer sensor MEMS memang merupakan pekerjaan yang sukar. Anda perlu menghilangkan kelembapan dari wafer tersebut, tetapi pada masa yang sama tidak boleh ada sisa-sisa kelembapan yang tertinggal. Selain itu, suhu yang ekstrem juga boleh merosakkan bahan tersebut. Untuk waktu yang lama, kita hanya menggunakan ketuhar konvektif untuk tujuan ini, dengan harapan hasilnya akan memuaskan. Namun, ada cara yang lebih efektif.

Kita kini menggunakan kaedah pemanasan inframerah gelombang pendek. Daripada memanaskan seluruh ruang udara hanya untuk mengeringkan wafer yang kecil, kaedah ini memfokuskan haba terus pada molekul air. Cara ini lebih bersih, lebih cepat, dan jauh lebih efisien.

Pemanas pengeringan wafer MEMS

Mon, 08 Jun 2026 05:03:16 +0800

Di lantai fabrikasi, wafer keluar dari bilasan akhir—dan jam mula berjalan. Jika pemanas pengering tidak dapat mengikut, kelembapan akan terperangkap di bawah photoresist, dan akan kelihatan beberapa jam kemudian sebagai kecacatan dalam litografi. Kami membina pemanas pengering wafer MEMS kami untuk menghapuskan risiko itu dari sumbernya: haba yang stabil, kitaran demi kitaran, tanpa gangguan.

Apa yang penting di dalam sistem

Kami menggunakan pemancar inframerah gelombang pendek yang disesuaikan dengan profil penyerapan air dan pelarut biasa, jadi permukaan menjadi panas dengan cepat dan langsung. Keseragaman suhu di seluruh wafer kekal dalam ±0.1°C, yang melindungi kawalan dimensi kritikal photoresist semasa soft bake dan hard bake. Badan pemanas diperbuat daripada kuarza dan keluli tahan karat, dibina untuk operasi bilik bersih Kelas 1–100 dengan tiada penghasilan partikel.

MEMS on Ultra-Performance IR Heating

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Pemanas pengeringan wafer MEMS

Apa yang penting di dalam sistem