Mengeringkan on Ultra-Performance IR Heating

Lampu pengering wafer yang murah

Sat, 04 Jul 2026 10:49:41 +0800

Lampu Inframerah yang Direka untuk Penggunaan Sebenar
Kami menciptakan lampu inframerah ini untuk para jurutera yang sudah bosan membayar harga yang sangat mahal untuk mendapatkan prestasi yang terbaik. Ia merupakan alternatif yang berkualiti tinggi bagi komponen berjenama antarabangsa yang mahal itu—terutamanya untuk tujuan pengeringan wafer. Tujuannya adalah untuk memberikan output haba yang tinggi serta kebolehpercayaan yang tinggi, agar proses pengeringan dapat berjalan dengan lancar, namun pada harga yang berpatutan.

Apa yang Membuatnya Unggul: Kuasa dan Reka Bentuk
Di bahagian tengah lampu ini terdapat unsur halogen berketumpatan tinggi. Unsur ini direka untuk memberikan respons haba yang cepat, jadi ia akan panas dengan cepat. Kuasa yang dihasilkan sesuai sepenuhnya dengan voltan sistem anda, sekali gus memastikan pengeluaran haba yang stabil sebaik sahaja diperlukan.

Pemanas inframerah untuk mengeringkan wafer

Thu, 02 Jul 2026 08:35:12 +0800

Di bilik pembersihan yang canggih ini, kesan tanda air yang tertinggal selepas proses pembersihan sahaja sudah cukup untuk merosakkan keseluruhan kumpulan wafer tersebut. Proses pengeringan secara konvensional akan menyebabkan perbezaan suhu di permukaan wafer, dan perbezaan ini akan menyebabkan ketidakseragaman ketebalan lapisan photoresist setelah proses pembakaran. Kami telah mencipta pemanas inframerah khusus untuk menghilangkan perbezaan suhu tersebut sejak awal.

Apa yang penting dari segi teknikalnya
Kami menggunakan pemancar inframerah gelombang pendek yang dilengkapi dengan unsur kuarsa berkapasiti respons yang cepat. Dengan cara ini, aliran haba di permukaan wafer menjadi seragam, walaupun pada skala sub-milimeter. Ini memastikan suhu pada permukaan wafer tetap seragam dalam lingkungan ±0.1°C, dan kebolehpengulangan proses juga terjaga, tanpa mengira perubahan masa, kumpulan wafer, atau alat yang digunakan.

Pemanas pengeringan wafer MEMS

Mon, 08 Jun 2026 05:03:16 +0800

Di lantai fabrikasi, wafer keluar dari bilasan akhir—dan jam mula berjalan. Jika pemanas pengering tidak dapat mengikut, kelembapan akan terperangkap di bawah photoresist, dan akan kelihatan beberapa jam kemudian sebagai kecacatan dalam litografi. Kami membina pemanas pengering wafer MEMS kami untuk menghapuskan risiko itu dari sumbernya: haba yang stabil, kitaran demi kitaran, tanpa gangguan.

Apa yang penting di dalam sistem

Kami menggunakan pemancar inframerah gelombang pendek yang disesuaikan dengan profil penyerapan air dan pelarut biasa, jadi permukaan menjadi panas dengan cepat dan langsung. Keseragaman suhu di seluruh wafer kekal dalam ±0.1°C, yang melindungi kawalan dimensi kritikal photoresist semasa soft bake dan hard bake. Badan pemanas diperbuat daripada kuarza dan keluli tahan karat, dibina untuk operasi bilik bersih Kelas 1–100 dengan tiada penghasilan partikel.