<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Pengukuran on Ultra-Performance IR Heating</title>
		<link>http://ir-heat-ultra.com/ms/tags/pengukuran/</link>
		<description>Recent content in Pengukuran on Ultra-Performance IR Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 04 Jun 2026 03:29:57 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-ultra.com/ms/tags/pengukuran/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas pengukuran ketegangan permukaan wafer</title>
				<link>http://ir-heat-ultra.com/ms/posts/wafer-surface-tension-measurement-heater/</link>
				<pubDate>Thu, 04 Jun 2026 03:29:57 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-ultra.com/ms/posts/wafer-surface-tension-measurement-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-ultra.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Pemanas pengukuran ketegangan permukaan wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;On the fab floor, anda tahu betapa cepatnya keadaan boleh menjadi tidak terkawal. &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;Perubahan&lt;/a&gt; 1°C dalam soft bake photoresist akan mengubah CD anda. Pengeringan yang tidak sekata? Itu bagaimana kesan air yang mengurangkan hasil berlaku. Kami membina pemanas pengukuran ketegangan permukaan wafer untuk menghentikan kerugian tersebut dari sumbernya.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting, secara teknikal&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami menggunakan inframerah gelombang pendek untuk pemindahan haba tanpa sentuhan yang pantas yang terus mengenai wafer dan photoresist. Keseragaman di seluruh wafer kekal dalam ±0.1°C, dan kebolehulangan setpoint ialah ±0.2°C. Responsnya di bawah 2 saat, jadi kenaikan suhu mengikuti resipi dengan &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;tepat&lt;/a&gt;—tiada lebihan suhu.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
