<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Peralatan on Ultra-Performance IR Heating</title>
		<link>http://ir-heat-ultra.com/ms/tags/peralatan/</link>
		<description>Recent content in Peralatan on Ultra-Performance IR Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 28 Jun 2026 05:31:25 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-ultra.com/ms/tags/peralatan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Peralatan bilik bersih dinaik taraf di fasiliti tersebut.</title>
				<link>http://ir-heat-ultra.com/ms/posts/clean-room-equipment-upgrades-fab/</link>
				<pubDate>Sun, 28 Jun 2026 05:31:25 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-ultra.com/ms/posts/clean-room-equipment-upgrades-fab/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-ultra.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Peralatan bilik bersih dinaik taraf di fasiliti tersebut.&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik pembuatan semikonduktor, perbezaan suhu sebanyak 0.3°C semasa proses pemanggangan fotoresist bukanlah “kesilapan kecil”. Ia merupakan pengurangan kualiti produk yang dihasilkan. Suhu yang digunakan dalam proses Soft Bake dan Hard Bake menentukan julat dimensi yang diinginkan. Apabila keseragaman suhu berkurangan, maka pemilihan bahan yang akan digunakan untuk proses etching juga akan terjejas. Meningkatkan sistem pemanasan di bilik bersih bukanlah sekadar untuk tujuan estetika, tetapi untuk mengawal proses pengeluaran dengan lebih baik.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
