Aquecedor de secagem de wafer MEMS

Mon, 08 Jun 2026 05:03:16 +0800

No piso da fábrica, a pastilha sai do enxágue final — e o relógio começa a contar. Se o aquecedor de secagem não acompanha, há umidade retida sob o fotoresiste, que aparece horas depois como defeitos na litografia. Projetamos nossos aquecedores de secagem para pastilhas MEMS para eliminar esse risco na origem: calor constante, ciclo após ciclo, sem falhas.

O que importa no funcionamento interno

Operamos emissores infravermelhos de onda curta, sintonizados ao perfil de absorção da água e dos solventes comuns, para que a superfície aqueça rapidamente e de forma direta. A uniformidade de temperatura na pastilha permanece dentro de ±0,1°C, o que protege o controle da dimensão crítica do fotoresiste durante o soft bake e hard bake. O corpo do aquecedor é de quartzo e aço inox, projetado para operação em sala limpa Classe 1–100, com geração zero de partículas.

Aquecedor de medição de tensão superficial de wafer

Thu, 04 Jun 2026 03:29:57 +0800

No chão de fábrica, você sabe o quão rápido as coisas podem sair do controle. Um desvio de 1°C na pré-secagem do fotoresiste altera seus CDs. Uma secagem não uniforme? É assim que surgem manchas de água que comprometem o rendimento. Desenvolvemos o aquecedor de medição de tensão superficial do wafer para evitar essas perdas desde o início.

O que importa, tecnicamente
Utilizamos infravermelho de onda curta para transferência térmica rápida e sem contato, que incide diretamente no wafer e no fotoresiste. A uniformidade ao longo do wafer mantém-se dentro de ±0,1°C, e a repetibilidade do ponto de ajuste fica em ±0,2°C. A resposta é inferior a 2 segundos, portanto, a rampa acompanha a receita com precisão — sem ultrapassagens.

Pastilha on Ultra-Performance IR Heating

Aquecedor de secagem de wafer MEMS

O que importa no funcionamento interno

Aquecedor de medição de tensão superficial de wafer