Lâmpada de aquecimento para teste de queimadura em wafer

Mon, 22 Jun 2026 23:38:30 +0800

Na linha de produção, as flutuações de temperatura durante o processo de aquecimento dos wafers e durante a secagem do fotorevestimento não vêm acompanhadas de nenhum aviso. Elas se manifestam como variações na espessura da linha, adesão insuficiente entre os componentes e perda de produtividade, que só são detectadas posteriormente, durante os testes elétricos. Nós desenvolvemos nossas lâmpadas de aquecimento por NIR para evitar essas flutuações desde o início.

O que é importante por trás disso tudo O sistema utiliza fontes de luz NIR de onda curta, com revestimento de quartzo que permite uma transferência rápida de calor para o wafer, sem necessidade de contato físico. Espera-se uma uniformidade de temperatura de ±0,1°C em toda a área de processamento, com repetibilidade de 0,2°C entre diferentes sessões de processamento. Os perfis de aquecimento suave e intenso são mantidos sob controle rigoroso, garantindo que os solventes sejam removidos completamente e que não haja formação de redes complexas nas estruturas dos wafers.

Teste on Ultra-Performance IR Heating

Lâmpada de aquecimento para teste de queimadura em wafer