<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Микроэлектромеханические Системы (МЭМС) on Ultra-Performance IR Heating</title>
		<link>http://ir-heat-ultra.com/ru/tags/%D0%BC%D0%B8%D0%BA%D1%80%D0%BE%D1%8D%D0%BB%D0%B5%D0%BA%D1%82%D1%80%D0%BE%D0%BC%D0%B5%D1%85%D0%B0%D0%BD%D0%B8%D1%87%D0%B5%D1%81%D0%BA%D0%B8%D0%B5-%D1%81%D0%B8%D1%81%D1%82%D0%B5%D0%BC%D1%8B-%D0%BC%D1%8D%D0%BC%D1%81/</link>
		<description>Recent content in Микроэлектромеханические Системы (МЭМС) on Ultra-Performance IR Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 08 Jun 2026 05:03:16 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-ultra.com/ru/tags/%D0%BC%D0%B8%D0%BA%D1%80%D0%BE%D1%8D%D0%BB%D0%B5%D0%BA%D1%82%D1%80%D0%BE%D0%BC%D0%B5%D1%85%D0%B0%D0%BD%D0%B8%D1%87%D0%B5%D1%81%D0%BA%D0%B8%D0%B5-%D1%81%D0%B8%D1%81%D1%82%D0%B5%D0%BC%D1%8B-%D0%BC%D1%8D%D0%BC%D1%81/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Нагреватель для сушки кремниевой пластины MEMS</title>
				<link>http://ir-heat-ultra.com/ru/posts/mems-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Mon, 08 Jun 2026 05:03:16 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-ultra.com/ru/posts/mems-wafer-drying-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-ultra.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Нагреватель для сушки кремниевой пластины MEMS&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На производственном этаже пластина выходит из последнего ополаскивания — и начинается отсчет времени. Если сушильный нагреватель не справляется, под фоторезистом задерживается влага, которая проявляется через несколько часов в виде дефектов при литографии. Мы разработали наши нагреватели для сушки MEMS-пластин так, чтобы убрать этот риск у источника: стабильный нагрев, цикл за циклом, без сбоев.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h2 id=&#34;что-важно-внутри&#34;&gt;Что важно внутри&lt;/h2&gt;&#xA;&lt;p&gt;Мы используем излучатели в коротковолновом инфракрасном диапазоне, настроенные под профиль поглощения воды и распространенных растворителей, поэтому поверхность нагревается быстро и напрямую. Температурное распределение по пластине сохраняется в пределах ±0,1°C, что обеспечивает точность контроля критических размеров фоторезиста во время мягкой и жесткой термообработки. Корпус нагревателя выполнен из кварца и нержавеющей стали, предназначен для работы в чистых помещениях классов 1–100 с нулевым выделением частиц.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
