<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Oxid Hóa on Ultra-Performance IR Heating</title>
		<link>http://ir-heat-ultra.com/vi/tags/oxid-h%C3%B3a/</link>
		<description>Recent content in Oxid Hóa on Ultra-Performance IR Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>vi</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 25 Jun 2026 04:37:15 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-ultra.com/vi/tags/oxid-h%C3%B3a/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Phần tử gia nhiệt dùng để oxy hóa wafer</title>
				<link>http://ir-heat-ultra.com/vi/posts/wafer-oxidation-heating-element/</link>
				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 04:37:15 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-ultra.com/vi/posts/wafer-oxidation-heating-element/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-ultra.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Phần tử gia nhiệt dùng để oxy hóa wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;Trong&lt;/a&gt; quy trình oxy hóa, độ ổn định của nhiệt độ không chỉ là yếu tố quan trọng mà còn là yếu tố then chốt trong toàn bộ quy trình. Chỉ cần nhiệt độ thay đổi 1°C thôi, độ dày lớp oxit cũng sẽ thay đổi theo, và điều này đủ để khiến các linh kiện không đạt tiêu chuẩn mong muốn, khiến cho hàng giờ lao động bị lãng phí. Chúng tôi thiết kế những bộ phận gia nhiệt này nhằm loại bỏ sự không chắc chắn này.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
