Sấy Khô on Ultra-Performance IR Heating

Máy sấy wafer cảm biến MEMS

Mon, 27 Jul 2026 06:17:45 +0800

Cách tốt hơn để sấy khô các wafer MEMS
Hãy thành thật mà nói: việc sấy khô các wafer cảm biến MEMS thực sự là một công việc khó khăn. Bạn cần loại bỏ hết độ ẩm trên bề mặt wafer, nhưng đồng thời không được để lại bất kỳ chất còn sót lại nào. Ngoài ra, cũng không được để vật liệu bị tổn thương do sự thay đổi nhiệt độ quá mạnh. Trong thời gian dài, người ta chỉ có thể sử dụng lò sấy thông thường để sấy khô các wafer này. Nhưng có một cách hiệu quả hơn nhiều.

Kiểm toán năng lượng cho quy trình sấy trong nhà máy

Tue, 21 Jul 2026 09:35:09 +0800

Tại sao chúng tôi chuyển sang sử dụng phương pháp khử ẩm bằng tia hồng ngoại trong quy trình sản xuất?
Mỗi khi kiểm tra mức tiêu thụ năng lượng của các thiết bị sấy, tôi luôn tìm cách giảm lượng khí thải carbon mà không làm chậm tốc độ sản xuất.

Hầu hết các lò sấy truyền thống chỉ là những chiếc hộp lớn dùng để làm nóng không khí. Đó là cách sử dụng năng lượng một cách lãng phí; chúng ta chỉ làm nóng không khí chỉ để làm nóng các tấm wafer mà thôi. Phương pháp khử ẩm bằng tia hồng ngoại thì khác hoàn toàn. Thay vì làm nóng không khí, phương pháp này trực tiếp truyền năng lượng vào bề mặt của tấm wafer.

Bóng đèn sấy wafer giá rẻ

Sat, 04 Jul 2026 10:49:40 +0800

Bóng đèn hồng ngoại được thiết kế dành cho thực tế
Chúng tôi tạo ra bóng đèn hồng ngoại này dành cho những kỹ sư đã chán ngấy việc phải trả mức giá cao chỉ để có được hiệu suất xuất sắc. Đây là giải pháp thay thế tuyệt vời cho những linh kiện đắt tiền của các thương hiệu quốc tế mà bạn vẫn thường sử dụng – đặc biệt là dùng để sấy các tấm wafer. Mục đích của nó là mang lại lượng nhiệt cần thiết và độ tin cậy cao, giúp quy trình sản xuất diễn ra suôn sẻ, nhưng với mức giá hợp lý.

Máy sấy wafer bằng tia hồng ngoại

Thu, 02 Jul 2026 08:35:11 +0800

Trên khu vực xử lý wafer, chỉ cần có một vết nước nhỏ sau quá trình làm sạch thôi cũng đủ để làm hỏng cả một lô sản phẩm. Phương pháp sấy thông thường tạo ra sự chênh lệch nhiệt độ trên bề mặt wafer; điều này dẫn đến sự không đồng đều về độ dày của lớp phủ photoresist sau quá trình sấy. Chúng tôi đã thiết kế các bộ sưởi bằng tia hồng ngoại nhằm loại bỏ sự không đồng đều này ngay từ đầu.