Op de productielijn veroorzaken temperatuurschommelingen tijdens het ‘burn-in’-proces van de wafers en het drogen van de fotorezist geen waarschuwingssignalen. Ze worden echter wel merkbaar in vorm van een afwijking in de dikte van de lijnen op de wafers, zwakke hechting tussen de lagen, en een daling in de kwaliteit van de wafers – dit wordt pas later ontdekt tijdens de elektrische tests. We hebben onze NIR-verwarminglampen zo ontworpen dat ze deze afwijkingen voorkomen, nog voordat ze zich kunnen voordoen.
Wat er echt belangrijk is Het systeem maakt gebruik van kortegolf-NIR-lichtbronnen met een snel reagerend kwartsomhulsel. Hierdoor wordt de warmte snel en zonder contact overgedragen op de wafers. Er moet sprake zijn van een constante temperatuur van ±0,1°C in het procesgebied, met een herhalbaarheidsmarge van 0,2°C per keer. De parameters voor het zachte en harde drogen blijven onder controle door een streng thermisch beheer. Hierdoor kunnen oplosmiddelen goed worden weggehaald en kunnen de lagen niet gaan verbinden met elkaar.
Ons systeem is geschikt voor zuiverruimtes van klasse 1–100. De lampen zijn goed afgesloten, de afvoer van lucht wordt gecontroleerd en hete oppervlakken worden beschermd, zodat het aantal deeltjes op een laag niveau blijft.
Waarom het werkt in de praktijk Tijdens het ‘burn-in’-proces zorgt de lamp voor snel temperatuurstijgingen, waardoor de tijd die nodig is om de wafers te drogen verkort wordt, zonder dat er spanning ontstaat op de verbindingen tussen de lagen. Tijdens het lithografieproces zorgt dezelfde energiedichtheid voor een consistente droging van de wafers, waardoor de kwaliteit van de wafers verbetert.
U krijgt 24/7 betrouwbare prestaties, met voorspelbare onderhoudstijden. Bovendien wordt er energie bespaard, omdat de lamp alleen de wafers verwarmt, en niet de hele ruimte. Hierdoor kunnen er meer wafers per cyclus worden verwerkt, daalt het aantal defecten en wordt de cyclustijd verkort.
De praktische details Het NIR-licht van de lamp komt rechtstreeks op de wafers terecht. Daarom moet de oriëntatie van de wafers en de snelheid van het transportmechanisme worden aangepast aan het profiel van het lichtbundel. Er is een korte inrichtingsperiode nodig om de kalibratie af te ronden.
De lamp werkt met standaard SEMI-interfaces. Echter, om hem in bestaande systemen te integreren, kan het nodig zijn om de thermische zone aan te passen en de parameters van het proces bij te werken. Plan goed hoe de luchtstroom in de zuiverruimte wordt geregeld, zodat de afvoer van lucht voldoende is tijdens piekbelastingen.