Di bilik pengeluaran, perubahan suhu semasa proses pembakaran wafer dan proses pemanggangan bahan fotoresist tidak disertai dengan amaran tertentu. Perubahan ini akan menyebabkan masalah seperti perubahan lebar garisan pada permukaan wafer, kekuatan pengikatan antara bahan-bahan yang digunakan menjadi lemah, serta penurunan kualiti wafer tersebut. Masalah-masalah ini hanya akan dikesan kemudian, semasa ujian elektrik. Kami telah mencipta lampu pemanasan NIR untuk mengelakkan perubahan suhu tersebut sebelum ia berlaku.
Apa yang penting dalam sistem ini
Sistem ini menggunakan sumber cahaya NIR berfrekuensi rendah, yang membolehkan haba disalurkan ke wafer dengan cepat tanpa perlu sentuhan fizikal. Kestabilan suhu di kawasan pemprosesan adalah sekitar ±0.1°C, manakala ketepatan pengulangan proses pula adalah sekitar 0.2°C. Proses pemanggangan dilakukan dengan kawalan suhu yang ketat, supaya bahan-bahan kimia dapat dikeluarkan sepenuhnya dan tidak terjadi proses pengikatan yang tidak diinginkan.
Sistem ini sesuai untuk bilik bersih kelas 1–100, kerana strukturnya yang dirancang sedemikian rupa agar jumlah zarah di udara tetap rendah. Badan lampu disegel, udara buangan dikawal dengan baik, dan permukaan panas dilindungi agar jumlah zarah tetap stabil.
Mengapa sistem ini efektif dalam praktik
Dalam proses pembakaran wafer, lampu ini memungkinkan peningkatan suhu yang cepat, tanpa menimbulkan tekanan pada komponen-komponen yang ada. Dalam proses litografi pula, tenaga yang dihasilkan oleh lampu ini membantu mencapai hasil pemanggangan yang konsisten, sehingga kualiti wafer tetap terjaga.
Anda akan mendapat keandalan yang tinggi sepanjang masa, dengan jadual penyelenggaraan yang dapat diramalkan. Selain itu, tenaga juga dapat dijimatkan kerana sumber haba hanya memanaskan objek yang dituju, bukan seluruh bilik. Ini memungkinkan proses pemprosesan berjalan lebih cepat, penggunaan bahan pembaziran berkurangan, dan masa siklus menjadi lebih singkat.
Butiran praktikal
Output cahaya dari lampu NIR memerlukan orientasi wafer yang tepat, agar sinar cahaya dapat sampai ke wafer dengan efektif. Proses kalibrasi memerlukan waktu yang singkat sahaja. Lampu ini boleh digunakan dengan antaramuka SEMI yang standard, namun untuk digunakan pada sistem lama, mungkin diperlukan penyesuaian pada sistem kawalan suhu dan parameter proses. Pastikan aliran udara di bilik bersih dikawal dengan baik, agar udara buangan dapat menghadapi beban maksimum semasa proses pemprosesan.