Cara yang Lebih Baik untuk Mengeringkan Wafer MEMS
Sejujurnya, proses pengeringan wafer sensor MEMS memang merupakan pekerjaan yang sukar. Anda perlu menghilangkan kelembapan dari wafer tersebut, tetapi pada masa yang sama tidak boleh ada sisa-sisa kelembapan yang tertinggal. Selain itu, suhu yang ekstrem juga boleh merosakkan bahan tersebut. Untuk waktu yang lama, kita hanya menggunakan ketuhar konvektif untuk tujuan ini, dengan harapan hasilnya akan memuaskan. Namun, ada cara yang lebih efektif.
Kita kini menggunakan kaedah pemanasan inframerah gelombang pendek. Daripada memanaskan seluruh ruang udara hanya untuk mengeringkan wafer yang kecil, kaedah ini memfokuskan haba terus pada molekul air. Cara ini lebih bersih, lebih cepat, dan jauh lebih efisien.
Kelajuan dan Penggunaan Tenaga
Perbezaan kelajuan antara kedua-dua kaedah ini sangat ketara. Masa yang diperlukan untuk mengeringkan wafer dapat dikurangkan dari beberapa minit menjadi beberapa saat sahaja. Dengan adanya fokus haba yang tinggi, haba tersebut akan langsung menyerang permukaan wafer dan segera berfungsi.
Selain itu, bil elektrik anda juga akan berkurangan. Anda tidak perlu membazir tenaga untuk memanaskan ruang kosong. Jika kilang anda ingin mendapatkan sijil hijau atau mencapai sasaran karbon neutral, ini merupakan salah satu cara termudah untuk melakukannya.
Komponen yang Digunakan
Pemanas ini dibuat menggunakan kaca kuarsa berkualiti tinggi. Mengapa? Kerana ia mampu menahan tekanan haba yang tinggi tanpa retak. Lampu-lampu ini juga dilapisi agar spektrum pancaran habanya dapat disesuaikan. Dengan cara ini, haba akan sampai ke permukaan wafer pada panjang gelombang yang tepat untuk menghilangkan kelembapan.
Pemasangannya sangat mudah. Anda boleh menyambungkannya ke sistem yang sudah ada menggunakan penyambung industri biasa. Namun, perlu diingat bahawa lampu-lampu ini menghasilkan haba yang sangat tinggi. Anda perlu memastikan sistem penyejukan anda mampu menangani haba tersebut. Jika sistem penyejukan tidak efektif, komponen-komponen elektronik anda akan rosak.
Apa yang Berubah Setelah Menggunakan Kaedah Ini
Setelah beralih ke kaedah ini, anda tidak perlu lagi menggunakan unit pengendalian udara yang besar serta blower berkuasa tinggi. Ruang di kilang anda akan menjadi lebih luas, dan penggunaan tenaga juga akan berkurangan.
Namun, ada satu syarat: jarak antara lampu dan wafer haruslah sesuai. Jika lampu terlalu dekat dengan wafer, akan timbul kawasan yang terlalu panas, dan itu boleh merosakkan wafer tersebut. Untuk mengatasi masalah ini, kami menyarankan penggunaan pengawal PID berlitar tertutup. Pengawal ini akan memastikan suhu permukaan wafer tetap stabil dalam lingkungan $\pm 2^\circ\text{C}$, sehingga wafer anda akan selamat.