ウェーハのバーンインやフォトレジストのベイク処理中に温度が変動しても、それに対する警告は表示されません。その結果、線幅の変動や接着力の低下、そして電気的なテスト時に初めて問題が明らかになります。私たちは、このような変動を未然に防ぐために、NIR加熱ランプを開発しました。
重要なのは内部構造です
このシステムは、高速応答性を持つ石英製のケースを備えた短波長NIR光源を利用しており、接触せずに素早くウェーハに熱を伝えます。プロセスエリア全体での温度のばらつきは±0.1℃程度で、反復測定時のばらつきも0.2℃以内です。ソフトベイクとハードベイクの条件も厳格な温度管理によって安定して保持されるため、溶剤がきれいに除去され、網目状の構造が形成されることもありません。
また、低粒子数の設計により、クリーンルームのクラス1～100にも適しています。ランプのケースは密閉されており、排気も隔離されているため、粒子数が一定に保たれます。
実際の運用での利点
バーンイン処理では、迅速な温度上昇が可能で、接続部分に負担をかけずに済みます。リソグラフィ処理では、同じエネルギー密度によって、一貫したソフトベイクとハードベイクが実現され、CDの安定化やスカムの除去が可能になります。
24時間365日の信頼性があり、メンテナンスも容易です。また、光源が直接対象物を加熱するため、エネルギーの節約にもつながります。プロセスのスピードが向上し、不良率が減少し、サイクルタイムも短縮されます。
実用的な詳細
NIRランプの出力は直線的なため、ウェーハの向きやステージの速度をビームの形状に合わせる必要があります。調整には短時間しかかかりません。
このランプは標準的なSEMIインターフェースを使用していますが、既存の装置に導入する場合は、熱ゾーンの再設計やレシピパラメータの調整が必要になることがあります。クリーンルームの空気の流れをしっかりと管理し、温度上昇時の排気能力を確保してください。