製造現場では、洗浄後に残るわずかな水跡だけで、大量のウェハーが不良品になってしまうことがあります。従来の乾燥方法では、ウェハー表面に温度勾配が生じ、その結果、ソフトベイク後にフォトレジストの厚みに不均一性が生じます。私たちは、そうした不均一性を根本から解消するために、インフラーレッドヒーターを開発しました。
技術的に重要な点 私たちは、高速応答性を持つ石英素子を用いた短波長インフラーレッドエミッターを使用しています。これにより、ウェハー表面全体における熱流がマイクロメートル単位で均一になります。その結果、ウェハー全体の温度のばらつきは±0.1℃以内に抑えられ、シフトやロットの変更、装置の交換にも関わらず再現性が保たれます。 100℃から300℃の範囲で出力が安定しており、厳密なフィードバック制御により、ソフトベイクやハードベイクのプロセスが正確に実行されます。また、このヒーターはクラス1～100のクリーンルームで使用できるように設計されており、ガス放出が少なく、粒子の発生もない上、表面も簡単に拭けてチャンバーを汚染しません。
実際に効果的な理由 ウェハーの乾燥やフォトレジスト処理において、温度の均一性は歩留まりと廃棄率を左右する重要な要素です。適切な温度プロファイルにより、エッジビードや定在波が減少し、CDの精度が向上し、廃棄率が低下します。 迅速な加熱によりサイクルタイムが短縮され、温度管理も容易になります。また、安定した設定値により、再作業が減少します。エミッターが対象物のみを加熱するため、エネルギーの消費も削減されます。信頼性に関しては、24時間365日稼働可能で、予測可能なメンテナンス間隔があるため、計画外の停止はありません。
具体的な仕様 設置時には、光学的位置合わせや、キャリアやウェハーの放射率に注意が必要です。表面が合っていないと、温度分布が乱れてしまいます。 システムが正常に動作するためには、清潔で乾燥した空気と安定した電圧供給が必要です。PIDの調整や、ウェハーのサイズやプロセスに合わせたホットゾーンの設定を行うために、短時間の試運転が必要です。 一度設定されれば、ヒーターはほとんどドリフトせずに動作します。ただし、チャンバーを変更した後は再度確認する必要があります。これは、一般的な作業手順です。