無駄なくウェーハを乾燥させる方法
正直に言って、従来の対流型オーブンは、現代の半導体製造施設にとってはまさに悩みの種です。大きくて、エネルギー消費も多く、また、鉛フリーで環境に優しい基準にも合致しません。
そのため、私たちは洗浄工程で防水機能付きの赤外線ランプを使用しています。大量の空気を加熱する代わりに、このランプは直接液体に作用します。これはずっと効率的な方法です。
実際の動作原理
熱い空気はゆっくりと移動しますが、赤外線は違います。電磁波を利用してウェーハ上の液体に直接作用し、水分子を振動させて瞬時に蒸発させます。
また、これらのランプは高湿度の環境下で動作するため、普通の電球では使えません。密封された石英ケースや耐湿性のある端子が必要です。そうしないと、フィラメントが酸化して数日で壊れてしまいます。毎週火曜日にランプを交換するのは面倒ですよね。
地球に優しい方法
ほとんどの従来の乾燥装置は化石燃料や巨大な暖房・空調システムを使っているため、莫大なエネルギーを消費します。一方、赤外線ランプは電力で動作するため、再生可能エネルギーを利用すれば、二酸化炭素の排出量はほぼゼロになります。
さらに、有害なVOCや化学溶剤も発生しません。純粋なエネルギーだけで処理が行われます。
難しい点
ただし、簡単に使えるわけではありません。高強度のランプは生産効率を上げるのに役立ちますが、その熱度は非常に高いです。ランプがウェーハにあまりに近いと、基板に熱ストレスがかかってしまいます。
正確な距離を保つ必要があります。少しの調整で、シリコンが過度に加熱されるのを防ぐことができます。
スペースの節約
最良の点は、このシステムの占有スペースがとても小さいことです。大規模な対流型オーブンと同等の乾燥性能が得られますが、必要なスペースはごくわずかです。
つまり、クリーンルーム内のスペースを有効活用でき、洗浄用水の配管に関する問題も大幅に減ります。これは、化学的な問題を電力を使って簡単に解決する方法です。